Plazmová čistička vzduchu (systém čištění plazmového plynu)

Pracovní princip nízkoteplotního{0}}čištění plazmy

Když se nízkoteplotní plazma používá k rozkladu znečišťujících látek, jako je ropná mlha a průmyslové odpadní plyny, hrají ionty v plazmatu rozhodující roli. Meteorické-ionty podléhají nepružným srážkám s molekulami znečišťujících látek a přeměňují energii na vnitřní energii molekul základního-stavu (atomů). To spouští řadu procesů včetně excitace, disociace a ionizace, což způsobuje, že znečišťující látky vstoupí do aktivovaného stavu.

Aktivované molekuly polutantu generují působením plazmy reaktivní volné radikály. Tyto aktivované molekuly jsou pak odstraněny pomocí směrových řetězových chemických reakcí vyvolaných plazmou. Když průměrná energie iontů překročí energii chemické vazby molekul znečišťujících látek, molekulární řetězce se přeruší, což má za následek rozklad kontaminantů, které se následně shromažďují přes adsorpční pole uvnitř plazmového generátoru.

V nízkoteplotním plazmatu může docházet k různým chemickým reakcím- v závislosti zejména na faktorech, jako je průměrná energie plazmatu, hustota iontů, teplota plynu, koncentrace znečišťujících látek a složení koexistujících látek.

Degradační mechanismus plynných polutantů

Nízkoteplotní plazma poskytuje dostatek energie pro tvorbu volných radikálů a spouštění řady složitých fyzikálních a chemických reakcí. Fyzikálně-chemické reakce způsobené nízkoteplotním plazmatem zahrnují ionizaci, disociaci, excitaci, mezimolekulární vazby a adiční reakce probíhající v plynné fázi.

Tato energie je dostatečná k tomu, aby rozbila většinu chemických vazeb v plynných polutantech, čímž došlo k rozkladu a degradaci škodlivých látek.

Proces čištění a složení systému

Pro zlepšení účinnosti čištění vzduchu je vybráno čisticí zařízení s vyšším koronovým výbojovým proudem. Systém kombinujepulzní koronový výboj nízkoteplotní plazmové-technologiesadsorpční technologiepro úpravu plynu.

Mezi nimi:

Sirovodík (H2S)

Amoniak (NH3)

Benzen

Toluen

xylen

formaldehyd

Aceton

Uretanové sloučeniny

Pryskyřice

Jiné těkavé organické sloučeniny (VOC)

oxid uhličitý (CO₂)

ozón (O₃)

Čistící systém se obecně skládá z:

Před-filtrační jednotka

Nízkoteplotní plazmový generátor

Filtrační jednotka

Ventilační systém

Pomocné komponenty a příslušenství

Plazmový oxidační mechanismus

Primární elektrony jsou urychlovány v elektrickém poli a srážejí se s molekulami kyslíku ve vzduchu. Když energie překročí ionizační potenciál molekul kyslíku, dojde k ionizaci.

Molekuly kyslíku, které ztrácejí elektrony, se stávají kladně nabitými ionty kyslíku (O₂⁺), zatímco uvolněné elektrony se spojují s neutrálními molekulami kyslíku za vzniku záporně nabitých iontů kyslíku (O₂⁻). V důsledku toho se ionty kyslíku shlukují do iontových shluků, jako jsou např02₂, 02⁻ a 02se silnou oxidační schopností.

Tyto vysoce reaktivní kyslíkové klastry mohou rychle oxidovat a rozkládat znečišťující látky v kontaminovaném vzduchu na neškodné konečné produkty, jako je např.oxid uhličitý, malomolekulární sloučeniny a voda (H2O)ve velmi krátké době.

Hlavní výhody nízkoteplotního{0}}čištění plazmy

Účinné odstraňování VOC a pachových plynů

Rychlý rozklad škodlivých škodlivin

Silná oxidační schopnost

Kombinace technologií čištění a adsorpce

Nízká spotřeba energie a nepřetržitý provoz

Vhodné pro aplikace zpracování průmyslových odpadních plynů

Šetrné k životnímu prostředí s vysokou účinností čištění